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  • 頭條華電學(xué)者揭示不同老化試驗(yàn)方法下的SiC MOSFET失效機(jī)理
    2021-05-28 作者:陳杰 鄧二平 等  |  來源:  |  點(diǎn)擊率:
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    導(dǎo)語SiC MOSFET中的界面陷阱會(huì)造成閾值電壓漂移,為探究和對(duì)比SiC MOSFET在不同老化試驗(yàn)方法下的失效機(jī)理和失效表征參數(shù)的變化規(guī)律,新能源電力系統(tǒng)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(華北電力大學(xué))、華電(煙臺(tái))功率半導(dǎo)體技術(shù)研究院有限公司的研究人員陳杰、鄧二平、趙子軒、吳宇軒、黃永章,在2020年第24期《電工技術(shù)學(xué)報(bào)》上撰文,對(duì)SiC MOSFET在不同導(dǎo)通模式下進(jìn)行功率循環(huán)試驗(yàn),基于不同導(dǎo)通模式下的特性分析,重點(diǎn)對(duì)比正向MOSFET模式和體二極管模式,提出了一種判斷準(zhǔn)則以及相應(yīng)的功率循環(huán)試驗(yàn)方法,可以將閾值電壓漂移對(duì)試驗(yàn)結(jié)果的影響最小化,并在老化試驗(yàn)過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)溫、通態(tài)壓降和熱阻的在線測(cè)量。 研究結(jié)果表明,在兩種模式下失效方式均為鍵合線老化,但是老化后的電熱反饋機(jī)制不同,造成其退化規(guī)律和壽命不同,相同熱力條件下體二極管模式下的壽命約為正向MOSFET模式下的兩倍。

    近年來,隨著碳化硅(SiC)在材料生長(zhǎng)和器件加工方面取得長(zhǎng)足的進(jìn)步,基于SiC材料的功率半導(dǎo)體器件在眾多領(lǐng)域展現(xiàn)出越來越多的應(yīng)用,例如金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)。SiC MOSFET以其高臨界擊穿場(chǎng)強(qiáng)、高開關(guān)頻率、耐高溫等突出優(yōu)點(diǎn),更加適合高壓、高頻、高溫等應(yīng)用場(chǎng)合。隨著SiC MOSFET的逐步商業(yè)應(yīng)用,其長(zhǎng)期運(yùn)行可靠性問題開始受到了學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的重視。

    盡管SiC材料能夠耐受高溫,理論上可以達(dá)到500℃,但是受限于封裝技術(shù)等方面的制約,目前SiC器件仍采用傳統(tǒng)Si器件的封裝技術(shù),無法發(fā)揮其高溫工作的特性,市面上SiC MOSFET產(chǎn)品的最高工作溫度均沒有超過200℃,因此可以認(rèn)為,封裝技術(shù)是限制SiC器件在高溫下應(yīng)用的主要原因。同時(shí),由于制造成本高,SiC芯片面積較小,這將意味著相對(duì)較高的功率密度和工作溫度。而且較之于Si芯片,SiC芯片的楊氏模量更大(大約是前者的3倍)。這些問題將導(dǎo)致SiC器件在工作過程中更容易出現(xiàn)因熱應(yīng)力產(chǎn)生的封裝材料老化問題,可靠性問題更加嚴(yán)峻。

    功率循環(huán)試驗(yàn)是研究熱應(yīng)力加速老化試驗(yàn)條件下可靠性的有效方法,是進(jìn)行器件失效機(jī)理分析和壽命評(píng)估最有效的手段。通過給被測(cè)器件施加相應(yīng)的負(fù)載電流使得器件結(jié)溫升高達(dá)到指定結(jié)溫,然后切斷負(fù)載電流使其降溫,如此反復(fù)升溫和降溫過程以達(dá)到使器件老化的目的,也稱為主動(dòng)溫度循環(huán)。

    目前,主流功率循環(huán)試驗(yàn)主要讓器件工作在導(dǎo)通模式,依靠導(dǎo)通損耗來產(chǎn)生結(jié)溫波動(dòng)。對(duì)于絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)和二極管這種單一導(dǎo)通模式的器件,功率循環(huán)試驗(yàn)方法是確定的。MOSFET由于元胞結(jié)構(gòu)的特點(diǎn),存在正向MOSFET模式、反向MOSFET模式和體二極管模式三種導(dǎo)通模式。

    不同導(dǎo)通模式下器件的特性不同,導(dǎo)致功率循環(huán)試驗(yàn)方法不同,由此產(chǎn)生的失效機(jī)理和壽命可能會(huì)存在差異。有學(xué)者對(duì)MOSFET器件的功率循環(huán)試驗(yàn)方法也沒有明確規(guī)定,并且提到可以使用體二極管模式,由此造成不同試驗(yàn)方法之間具有等效性的錯(cuò)覺,然而目前并沒有相關(guān)研究對(duì)此進(jìn)行分析。

    另外,傳統(tǒng)的基于Si器件的功率循環(huán)試驗(yàn)方法和失效標(biāo)準(zhǔn)可能不適用于新型的SiC MOSFET器件。眾所周知,SiC MOSFET區(qū)別于Si MOSFET的一個(gè)重要特征是SiC/SiO2界面存在著大量的界面陷阱。界面陷阱能夠捕獲溝道載流子,造成閾值電壓漂移,漂移程度很大程度上取決于施加的柵極電壓。

    在正向柵極偏壓下,界面缺陷捕獲溝道中的電子造成閾值電壓正向漂移,而在反向柵極偏壓下,界面缺陷捕獲溝道中的空穴造成閾值電壓反向漂移。閾值電壓漂移最直接的影響就是造成芯片通態(tài)電阻的變化,進(jìn)而影響通態(tài)壓降和結(jié)溫,給SiC MOSFET功率循環(huán)試驗(yàn)增加了難度。

    華北電力大學(xué)的研究人員對(duì)SiC MOSFET在不同導(dǎo)通模式下進(jìn)行了功率循環(huán)試驗(yàn),探究和對(duì)比了其在不同老化試驗(yàn)方法下的失效機(jī)理和失效表征參數(shù)的變化規(guī)律。

    華電學(xué)者揭示不同老化試驗(yàn)方法下的SiC MOSFET失效機(jī)理

    圖1 試驗(yàn)裝置實(shí)物

    首先,基于器件在不同導(dǎo)通模式下的特性分析,重點(diǎn)對(duì)比正向MOSFET模式和體二極管模式,其中體二極管模式下的功率循環(huán)方法簡(jiǎn)單且容易實(shí)現(xiàn),而正向MOSFET模式下,為了將閾值電壓漂移的影響最小化,提出了一種判斷準(zhǔn)則以及相應(yīng)的功率循環(huán)試驗(yàn)方法,并在老化試驗(yàn)過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)溫、通態(tài)壓降和熱阻的在線測(cè)量。

    最后,基于實(shí)驗(yàn)結(jié)果,分析了不同功率循環(huán)試驗(yàn)方法對(duì)器件的老化規(guī)律、失效機(jī)理及壽命的影響,為SiC MOSFET的功率循環(huán)試驗(yàn)老化方法提供了理論指導(dǎo),并揭示了影響SiC MOSFET封裝可靠性的主要因素。

    SiC MOSFET憑借其優(yōu)異的電熱特性,正逐漸投入市場(chǎng),長(zhǎng)期運(yùn)行的可靠性成為關(guān)注的重點(diǎn),功率循環(huán)試驗(yàn)是考核器件可靠性最重要的老化試驗(yàn)。MOSFET具有三種導(dǎo)通模式,分別對(duì)應(yīng)三種不同的功率循環(huán)測(cè)試方法。華北電力大學(xué)的研究人員對(duì)SiC MOSFET在正向MOSFET模式和體二極管模式下進(jìn)行功率循環(huán)試驗(yàn),對(duì)比分析不同試驗(yàn)方法對(duì)器件的老化規(guī)律、失效機(jī)理及壽命的影響,從實(shí)驗(yàn)結(jié)果中得到如下結(jié)論:

    1)小電流下體二極管壓降可以作為溫敏電參數(shù)用于SiC MOSFET的結(jié)溫測(cè)量,應(yīng)用該方法時(shí)柵極需要加一定的負(fù)壓使溝道區(qū)被徹底關(guān)斷。

    2)閾值電壓漂移幾乎與柵極電壓的大小和持續(xù)時(shí)間成正比,當(dāng)正向偏壓的大小和持續(xù)時(shí)間的乘積與反向偏壓的大小和持續(xù)時(shí)間的乘積相同時(shí),可以使得閾值電壓漂移最小化,隔離其對(duì)鍵合線失效表征參數(shù)通態(tài)壓降的影響。

    3)正向MOSFET模式下通態(tài)壓降具有正溫度特性,當(dāng)鍵合線出現(xiàn)老化之后,電熱正反饋機(jī)制會(huì)加速老化過程,而二極管模式下通態(tài)壓降具有負(fù)溫度特性,由此產(chǎn)生的負(fù)反饋機(jī)制能夠抑制老化進(jìn)程,對(duì)老化起到一定的補(bǔ)償作用。

    4)對(duì)于具有電熱負(fù)反饋機(jī)制的二極管模式,傳統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)中通態(tài)壓降超過初始值5%即定義為失效,會(huì)低估器件的功率循環(huán)壽命,當(dāng)考慮有效循環(huán)壽命,在相同熱力條件下,二極管模式下的壽命約為正向MOSFET模式下的兩倍。

    以上研究成果發(fā)表在2020年第24期《電工技術(shù)學(xué)報(bào)》,論文標(biāo)題為“不同老化試驗(yàn)方法下SiC MOSFET失效機(jī)理分析”,作者為陳杰、鄧二平、趙子軒、吳宇軒、黃永章。